2003年3月19日 東京高等裁判所 判決
NF3による反応室クリーニング特許
結果 —向き―
| あらまし | 半導体の研究会社は、膜をつくる装置の反応室を、三フッ化窒素(NF3)というガスを使ったプラズマエッチングで掃除する方法について特許を持っていた。この特許に対して異議の申立てがあり、特許庁は特許を取り消す決定をした。研究会社は、この取消しの決定をなかったことにするよう求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は2001年11月19日、研究会社が出した特許の書類の訂正は認めた。そのうえで、この発明は以前に出ていた複数の文献をもとにすれば専門家が簡単に思いつけたものだとして、2つの請求項すべての特許を取り消した。 |
| 判断 | 研究会社の請求を退けた。特許を取り消した特許庁の決定は正しいとした。 出願当時、反応室の外でつくったガスを送り込むエッチングも「プラズマエッチング」に含まれると考えられていた。CF4に代えてNF3を使うことも簡単に思いつけたとした。 複数の反応室を1つの共通の部屋につなぐことや、膜をつくっていない反応室を掃除することも、専門家が当然選ぶ手順で、特別な効果もないとした。 |
- 裁判年月日
- 2003年3月19日
- 裁判所
- 東京高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成13年(行ケ)第585号
- 結果
- —
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 東京高等裁判所 平成13年(行ケ)第585号 2003.03.19— この判決 |
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この判決をした裁判官
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