2003年2月6日 東京高等裁判所 判決
反射防止薄膜の特許取消
結果 —向き―
| あらまし | 米国の会社が「反射防止薄膜」の特許を持っていた。この薄膜は、半導体の製造で使うフォトマスクにかぶせるほこりよけの膜（ペリクル）に使う。この特許に異議が申し立てられ、会社は特許の範囲を狭める訂正を求めた。しかし特許庁は、訂正を認めずに特許を取り消した。会社は、この特許庁の決定を取り消すよう求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は2001年4月6日、会社の訂正を認めなかった。そのうえで、請求項1〜8の発明は、以前からある3つの文献をもとに専門家なら簡単に思いつけたとして、特許を取り消す決定をした。 |
| 判断 | 会社の請求を退けた。特許庁の決定に誤りはないとした。 以前の文献はべたつく一部の材料を除いていただけで、ほかのフッ素系材料まで使えないとはしていない。低屈折率の新材料に替えるのは容易と判断した。 光の透過率が95〜96%から97%以上に上がったのは、屈折率の低い材料に替えれば予想できる程度で、特に優れた効果とはいえないとした。 |
- 裁判年月日
- 2003年2月6日
- 裁判所
- 東京高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成13年（行ケ）第327号
- 結果
- —
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 東京高等裁判所 平成13年（行ケ）第327号 2003.02.06— この判決 |
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この判決をした裁判官
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