2000年1月20日 東京高等裁判所 判決
フォトマスクへの品質情報の記録と特許
結果 —向き―
| あらまし | 三菱電機は、半導体の製造に使うフォトマスク（回路の型板）を作る方法について特許を出願した。この方法は、マスクを作っている間や使っている間に分かったチップごとの欠陥などの品質情報を、マスク上のチップごとの区画のうち、回路の模様の外側にある部分に書き込むというものだ。特許庁は特許を認めず、不服を申し立てた審判でも認めなかった。そこで三菱電機は、この審決を取り消すよう求めた。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は審決で、マスクの余白に製造上の情報を書き込む先行技術と、チップごとに区画を設けて模様を置く先行技術を組み合わせれば、専門家が簡単に思いつける発明だとした。そのため、特許は受けられないと判断した。 |
| 判断 | 出願の内容は「作成中」と「使用中」の品質情報のどちらかを記録すればよい書き方であり、「作成中」の情報を記録する点で先行技術と一致すると判断した。 「あるいは」は「及び」の意味だという会社の主張は、出願書類の記載そのものから見て採用できないとした。 マスクの寿命が一目で分かるという効果は「使用中」の情報を選んだ場合だけのものであり、審決に誤りはないとして、請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2000年1月20日
- 裁判所
- 東京高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成10年（行ケ）第372号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- —
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 東京高等裁判所 平成10年（行ケ）第372号 2000.01.20— この判決 |
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この判決をした裁判官
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