2006年4月25日 知的財産高等裁判所 判決
半導体用現像液の希釈装置の特許無効
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 長瀬産業など3社は、半導体製造で使う現像液の原液を純水で薄める装置について特許を持っていた。この装置は、液の電気の通しやすさ（導電率）を測って濃度を調整し、かき混ぜる槽と貯めておく槽を窒素ガスで覆うしくみだ。別の会社がこの特許を無効にするよう特許庁に求め、特許庁は無効と判断した。3社はこの判断の取消しを求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、エッチング液などの薬液を導電率で濃度管理しながら調合する既存の装置などをもとにすれば、専門家が簡単に思いつける発明だとして、特許を無効とした。 |
| 判断 | 3社の請求を退け、特許を無効とした特許庁の判断を維持した。 現像液に小数点以下3桁の濃度精度が必要だという主張には根拠がなく、導電率での濃度測定も既に知られていたので、薬液の装置を現像液に使い回すのは容易だとした。 貯める槽が濃度を均すという主張は明細書に書かれておらず、窒素ガスでかき混ぜる槽まで覆うことも専門家が適宜選べる程度のことだとした。 |
- 裁判年月日
- 2006年4月25日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成17年（行ケ）第10558号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成17年（行ケ）第10558号 2006.04.25請求棄却 この判決 |
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