2006年9月26日 知的財産高等裁判所 判決
半導体の位置合わせマークの特許出願
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 米国の半導体会社は、半導体を作る途中で、位置合わせの目印（アライメント・マーク）を酸化の工程から守って見やすく保つ製造方法について、特許を出願していた。特許庁は、この発明は以前からある技術をもとに専門家なら簡単に思いつけるとして、特許を認めなかった。会社は、この特許庁の判断（審決）を取り消すよう求めた。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、出願前に公開された文献にある発明と、広く知られた技術を組み合わせれば、専門家が簡単に発明できたとして、会社の不服を退けた（2005年6月7日の審決）。 |
| 判断 | 特許庁が両方の発明の共通点と違いを整理したやり方に誤りはなく、会社が指摘する違いも実質的には検討済みだったとした。 二つの領域にそれぞれ酸化膜を作る技術はよく知られており、これを先にある発明に組み合わせ、マスクを一つにまとめることは簡単に思いつけるとした。 会社が主張する効果も予想できる範囲にとどまるとして、会社の請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2006年9月26日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成17年（行ケ）第10740号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成17年（行ケ）第10740号 2006.09.26請求棄却 この判決 |
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