2007年4月27日 東京地方裁判所 判決
半導体材料の溶剤純度と特許無効
結果 —向き―
| あらまし | 米国の化学材料会社は、純度99％以上の乳酸エチルを含む溶剤を使った、半導体製造用の感光材料(フォトレジスト)の特許を持っていた。同社は、国内の化学メーカーの製品がこの特許を侵害しているとして、製造・販売の差止めを求めた。あわせて、訴え提起前の3年より前の分として約16億8000万円の不当利得の返還を、提起前3年間の分として約29億9000万円の損害賠償を求めた。メーカーは、製品は特許の範囲に入らず、特許にも無効の理由があると争った。 |
|---|---|
| 判断 | 特許は容易に思いつける発明に与えられた無効理由があり、権利を行使できないとして、差止めも金銭の請求もすべて退けた。 先行する公報に乳酸エチルを溶剤とする組成物が載り、溶剤の不純物を除く必要は常識で、蒸留で純度99％以上にするのも容易だった。 当時の市販品は純度97％や98％以上のものもあり、純度を99％以上と定めた効果が格別に大きいとも認められないとした。 |
- 裁判年月日
- 2007年4月27日
- 裁判所
- 東京地方裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成18年（ワ）第13040号
- 事件名
- 特許権侵害差止等請求事件
- 結果
- —
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 地裁 | 東京地方裁判所 平成18年（ワ）第13040号 2007.04.27— この判決 |
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この判決をした裁判官
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