2008年3月19日　知的財産高等裁判所　判決

プラズマ処理装置の特許出願拒絶

結果　請求棄却向き―

あらまし	半導体製造装置メーカーの東京エレクトロンは、「プラズマ処理装置」の特許を出願した。しかし、特許庁の審査官は特許を認めなかった。同社は不服を申し立て、あわせて出願書類を直した（以下「今回の修正」）。特許庁はこの修正を認めず、申立ても退けたため、同社はその判断の取消しを求めて裁判を起こした。
それまでの判断	特許庁は、今回の修正は法律で許された修正の種類のどれにも当たらないとして、修正を認めなかった。そのうえで、この発明は以前に公開された文献の発明と、よく知られた技術をもとに専門家なら簡単に思いつけるとして、申立てを退けた。
判断	「膜厚の均一性を5％以下にするために」という文言を削る修正は、権利の範囲を絞るものでも、分かりにくい記載を直すものでもなく、修正を認めなかった特許庁の判断は正しい。以前の文献にも、ガスの吹き出し口を容器の中心に向けた装置が書かれている。この点で両者は同じだとした特許庁の判断に誤りはない。吹き出し口とウエハの距離は50〜100mm程度が普通で、65mm以上にするのは専門家が簡単に思いつける。65mmという数字に特別な意味もないとして、会社の請求を退けた。

あらまし

半導体製造装置メーカーの東京エレクトロンは、「プラズマ処理装置」の特許を出願した。しかし、特許庁の審査官は特許を認めなかった。同社は不服を申し立て、あわせて出願書類を直した（以下「今回の修正」）。特許庁はこの修正を認めず、申立ても退けたため、同社はその判断の取消しを求めて裁判を起こした。

それまでの判断

特許庁は、今回の修正は法律で許された修正の種類のどれにも当たらないとして、修正を認めなかった。そのうえで、この発明は以前に公開された文献の発明と、よく知られた技術をもとに専門家なら簡単に思いつけるとして、申立てを退けた。

判断

「膜厚の均一性を5％以下にするために」という文言を削る修正は、権利の範囲を絞るものでも、分かりにくい記載を直すものでもなく、修正を認めなかった特許庁の判断は正しい。

以前の文献にも、ガスの吹き出し口を容器の中心に向けた装置が書かれている。この点で両者は同じだとした特許庁の判断に誤りはない。

吹き出し口とウエハの距離は50〜100mm程度が普通で、65mm以上にするのは専門家が簡単に思いつける。65mmという数字に特別な意味もないとして、会社の請求を退けた。

裁判の流れ

段階	裁判所	日付	種類	結果	判決文
高裁	知的財産高等裁判所平成19年（行ケ）第10159号 2008.03.19請求棄却　この判決	2008.03.19	―	請求棄却	この判決

判決文が公開されていないものは、分かっていることだけを載せています。

3人

名前	立場	向き	個別意見・役割
田中信義	賛成	―	裁判長
古閑裕二	賛成	―
浅井憲	賛成	―

判決のデータは裁判所ウェブサイトの裁判例検索などから集めています。傾向の色は、これまでの判決をもとにした目安です。

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