2008年6月30日 知的財産高等裁判所 判決
フォトレジストの溶剤の純度と特許
結果 控訴棄却向き―
| あらまし | 半導体の製造に使う「フォトレジスト組成物」について、純度99%以上の乳酸エチルを溶剤に使う発明の特許を持つ米国の電子材料メーカーが、同じような製品を作って売る国内の化学メーカーを訴えた。メーカーは、特許の侵害を理由に、製造販売の差止めと、不当利得・損害賠償として合計約46億円の支払を求めた。控訴審では差止めの請求を取り下げ、その代わりに賠償の請求を約15億円増やし、合計で約62億円を求めた。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 東京地方裁判所は、この特許は以前からある技術をもとに簡単に思いつけるもの（進歩性がない）で、無効にされるべきだから権利を使えないとして、請求をすべて退けた。 |
| 判断 | 控訴を退け、控訴審で増やした請求も退けた。特許は進歩性を欠き無効にされるべきなので、特許権者は権利を使えないと判断した。 乳酸エチルを溶剤にした同じ組成物は以前の公報にすでに載っていた。半導体の材料は純度を高めるのが常識で、純度99%以上の品も市販されていたと認めた。 明細書の実験は肉眼で見える粒子を数えただけで、もっと細かい粒子が抑えられたかは分からない。そのため、効果が特に優れているとは言えないと判断した。 |
- 裁判年月日
- 2008年6月30日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成19年（ネ）第10048号
- 事件名
- 特許権侵害差止等請求控訴事件
- 結果
- 控訴棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 一審 | 東京地方裁判所2007.04.27請求を退けた ― |
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成19年（ネ）第10048号 2008.06.30控訴棄却 この判決 |
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