2008年9月8日 知的財産高等裁判所 判決
ウェーハ研磨方法の特許と研磨装置
結果 控訴棄却向き―
| あらまし | 半導体ウェーハの縁（面取部）を鏡のように磨く加工方法の特許を共同で持つ2社が、ウェーハの縁を磨く装置を製造・販売する会社を訴えた。2社は、この装置の製造・販売が特許の侵害にあたるとして、平成15年1月から平成16年12月までの特許使用料に相当する損害賠償を、各2500万円（合計5000万円）求めた。特許の中心は、くぼんだ球面状の研磨面にウェーハの縁を「ほぼ全周」で押し当てて回転させる方法だった。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 東京地方裁判所は、装置で使われている研磨方法は特許の範囲に入らず、特許と実質的に同じもの（均等）ともいえないとして、2社の請求を退けた。 |
| 判断 | 「ほぼ全周」とは、位置決め用の切欠きや研磨剤を流す溝などで当たらない部分を除き、全周で当たることを意味すると解釈し、2社の控訴を退けた。 装置はあらかじめウェーハの一部が研磨面からはみ出す設計で、パッドの沈み込みやすり減りを考慮しても、特許の方法を使っているとは認めなかった。 全周で押し当てる点は特許の本質的な部分で、審査中に2社自身もそう説明していたので、実質的に同じもの（均等）ともいえないとした。 |
- 裁判年月日
- 2008年9月8日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成19年（ネ）第10085号
- 事件名
- 損害賠償請求控訴事件
- 結果
- 控訴棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 一審 | 東京地方裁判所2007.09.28請求を退けた ― |
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成19年（ネ）第10085号 2008.09.08控訴棄却 この判決 |
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