2008年9月10日 知的財産高等裁判所 判決
「フロン」の意味と絶縁膜の特許
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 半導体メーカー(サムコ)は、フロンガスと炭化水素ガスを混ぜた原料ガスからプラズマで絶縁膜を作る「IC用絶縁膜の作成方法」について特許を出願した。審査で特許を認めないとされたため不服を申し立てたが、特許庁も認めなかった。そこで会社は、特許庁のこの判断(審決)の取消しを求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、塩素を含まないフッ素系ガスも「フロン」に含まれるとした。そのうえで、同じようなガスを使って半導体の絶縁膜を作る方法が以前の公開公報に書かれており、この発明は専門家なら簡単に思いつけるとして、特許を認めなかった。 |
| 判断 | 会社の請求を退けた。 出願当時の辞典などによれば、「フロン」は塩素を含まないフッ素系ガスも含むのが専門家の常識であり、明細書にもそれを除く記載はないため、特許庁の理解は正しいとした。 特許庁の判断は審査段階と同じ理由によるもので、会社は自分で用語を直す機会もあった。そのため、改めて通知しなかったことは手続の誤りにあたらないとした。 |
- 裁判年月日
- 2008年9月10日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成20年(行ケ)第10045号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成20年(行ケ)第10045号 2008.09.10請求棄却 この判決 |
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この判決をした裁判官
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