2008年10月9日 知的財産高等裁判所 判決
X線と質量分析を同時に行う装置の特許
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 株式会社リガクは、イオン交換膜を温めながら、X線を小さな角度で当てて構造を調べる測定と、膜から出てくる分子の重さを調べる測定（質量分析）を同時に行う分析装置について特許を出願した。特許庁はこの出願を認めず、会社は不服を申し立てたが、それも退けられた。そこで会社は、特許庁の判断（審決）を取り消すよう求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、X線回折と質量分析を同時に行う装置を紹介した1987年の論文に、別の公報にあるX線小角散乱装置やよく知られた技術を組み合わせれば、専門家なら簡単に思いつける発明だとした。このため特許は受けられないとして、会社の不服申立てを退けた。 |
| 判断 | 特許庁の判断に誤りはないとして、会社の請求を退けた。 論文の装置も試料から出るガスの分子の重さを測れ、測れる範囲に膜から出る分子も入るので、出願した装置と構造上の違いはないとした。 測る試料をイオン交換膜にすることや、ヘリウムでガスを送る方法は簡単に思いつけるとし、請求項の1つでも特許を受けられなければ出願全体を拒絶してよいとした。 |
- 裁判年月日
- 2008年10月9日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成20年（行ケ）第10043号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成20年（行ケ）第10043号 2008.10.09請求棄却 この判決 |
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