2008年10月22日　知的財産高等裁判所　判決

エッチング用ガスの特許と進歩性

結果　請求棄却向き―

あらまし	米国の半導体メーカーが、基板上の酸化物の層をプラズマで削る方法について特許を出願した。削る際に使うガスをC2H2F4に限定する補正をしたが、特許庁はこの補正を認めず、出願を退ける審決をした。そこでメーカーが、審決の取消しを求めた。
それまでの判断	特許庁は、CHF3ガスを使う先行の公報の発明をもとに、同じ仲間のガスで広く知られていたC2H2F4に置き換えるのは専門家なら簡単に思いつくとした。そのため補正を却下し、補正前の発明も先行の発明と同じだとして、審判の請求を退けた。
判断	メーカーの請求を退けた。出願当時、C2H2F4をプラズマで削るためのガスとして使うことは、すでに広く知られた技術だった。その根拠は、異なる3者による4件の公報に、使えるガスとしてC2H2F4が書かれていたことだ。さらに、この分野は技術の進歩がとても速い。先行の発明のCHF3をC2H2F4に置き換えるのは簡単に思いつけた。効果を実験で確かめる必要があっても、その作業は専門家には難しくない。

あらまし

米国の半導体メーカーが、基板上の酸化物の層をプラズマで削る方法について特許を出願した。削る際に使うガスをC2H2F4に限定する補正をしたが、特許庁はこの補正を認めず、出願を退ける審決をした。そこでメーカーが、審決の取消しを求めた。

それまでの判断

特許庁は、CHF3ガスを使う先行の公報の発明をもとに、同じ仲間のガスで広く知られていたC2H2F4に置き換えるのは専門家なら簡単に思いつくとした。そのため補正を却下し、補正前の発明も先行の発明と同じだとして、審判の請求を退けた。

判断

メーカーの請求を退けた。出願当時、C2H2F4をプラズマで削るためのガスとして使うことは、すでに広く知られた技術だった。

その根拠は、異なる3者による4件の公報に、使えるガスとしてC2H2F4が書かれていたことだ。さらに、この分野は技術の進歩がとても速い。

先行の発明のCHF3をC2H2F4に置き換えるのは簡単に思いつけた。効果を実験で確かめる必要があっても、その作業は専門家には難しくない。

裁判の流れ

段階	裁判所	日付	種類	結果	判決文
高裁	知的財産高等裁判所平成19年（行ケ）第10426号 2008.10.22請求棄却　この判決	2008.10.22	―	請求棄却	この判決

判決文が公開されていないものは、分かっていることだけを載せています。

3人

名前	立場	向き	個別意見・役割
田中信義	賛成	―	裁判長
榎戸道也	賛成	―
浅井憲	賛成	―

判決のデータは裁判所ウェブサイトの裁判例検索などから集めています。傾向の色は、これまでの判決をもとにした目安です。

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