2012年3月19日 知的財産高等裁判所 判決
プラズマエッチング装置の特許と進歩性
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 東京エレクトロンは、半導体基板をプラズマで処理するエッチング装置の発明について特許を出願した。この装置は、最初は弱い電力でプラズマを起こし、その後電力を上げる。そうすることで、容器の壁からはがれる微粒子（パーティクル）が処理中のプラズマに入り込むのを抑える。特許庁が特許を認めなかったため、会社はその判断（審決）を取り消すよう裁判所に求めた。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、出願人が後から書き直した内容（補正）を認めなかった。そのうえで、この発明は以前に出された公開公報（刊行物1）の発明に広く知られた技術を組み合わせれば専門家が簡単に思いつけるものだとして、特許を認めない審決をした。 |
| 判断 | 刊行物1は、薄膜を作る装置だけでなく、エッチング装置も対象にしており、壁からはがれる微粒子の問題も扱っている。特許庁がそのように読んだのは正しいとした。 電圧を十分に高くすると、電極近くにできる層（イオンシース）に微粒子が閉じ込められることは広く知られていた。刊行物1にこれを当てはめるのは簡単で、効果も予想できる範囲だとした。 発明は簡単に思いつけるもので特許の要件を満たさないとした特許庁の判断に誤りはないとして、会社の請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2012年3月19日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成23年（行ケ）第10200号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成23年（行ケ）第10200号 2012.03.19請求棄却 この判決 |
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