2012年5月31日 知的財産高等裁判所 判決
半導体研磨剤の粒子数と特許の進歩性
結果 請求棄却向き―
| あらまし | ニッタ・ハース株式会社は、半導体を磨くための研磨剤（ヒュームドシリカという微粒子を水に分散させた液）について特許を出願した。この研磨剤は、粒径0.5μm以上の大きな粒子を1mlあたり60万個以下、1μm以上の粒子を6000個以下に抑えることで、研磨傷を減らすというものだった。特許庁は出願を認めず、不服の申立ても退けた。そこで会社は、この判断（審決）を取り消すよう求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、この研磨剤は以前に公開された2つの文献の技術をもとに専門家なら簡単に思いつけるものだとして、特許を認めない審決をした。 |
| 判断 | 文献に書かれた技術と出願した発明との違いの捉え方について、特許庁の審決には一部誤りがあると認めたが、結論には影響しないとした。 2つの文献はどちらも大きな粒子による研磨傷を減らす目的で共通しており、それらを組み合わせて粒子数を絞ることは専門家にとって難しくないとした。 60万個・6000個という数値を境に傷が急に減るとは認められず、数値に特別な意味はないとして、会社の請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2012年5月31日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成23年（行ケ）第10345号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成23年（行ケ）第10345号 2012.05.31請求棄却 この判決 |
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この判決をした裁判官
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