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2014年1月30日 知的財産高等裁判所 判決

研磨パッドの溝の寸法と進歩性

結果 請求棄却向き―

あらましアメリカの半導体製造装置メーカーが、半導体基板を磨く装置に使う研磨パッドを発明したとして、特許を出願した。このパッドは、表面に同心円状の溝があり、溝の深さ・幅・間隔を数値で特定している。特許庁は出願を認めず、メーカーの不服の申立ても退けた。そこでメーカーは、この特許庁の判断(審決)を取り消すよう求めた。
それまでの判断特許庁は、溝付き研磨パッドを紹介した論文と、溝を深くするとパッドが長持ちすると書いた別の公報、それに当時よく知られていた技術があれば、専門家が簡単に思いつける発明だとした。そのため特許は認められないと判断した。
判断

溝を深くすればパッドが長持ちすることは既に知られていた。溝の深さ・幅・間隔は専門家が自由に選べる設計の問題で、今回の数値に特別な意味はないとした。

溝の深さに合わせて幅や間隔も変えることは、専門家がふつうに行う工夫で、簡単に思いつけると判断した。

メーカーが出した後の論文の性能向上は、溝の加工の質など他の改良の影響もあり、溝の寸法だけの効果とはいえないとして、請求を退けた。

裁判年月日
2014年1月30日
裁判所
知的財産高等裁判所
種類
―
事件番号
平成25年(行ケ)第10054号
事件名
審決取消請求事件
結果
請求棄却
向き
―
原文
裁判所ウェブサイト

裁判の流れ

段階裁判所日付種類結果判決文
高裁知的財産高等裁判所

平成25年(行ケ)第10054号

2014.01.30請求棄却 この判決
2014.01.30―請求棄却この判決

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この判決をした裁判官

3人
傾向名前立場向き個別意見・役割
飯村 敏明賛成―裁判長
八木 貴美子賛成―
小田 真治賛成―

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