2014年3月25日 知的財産高等裁判所 判決
フォトレジスト用高分子の先願との同一性
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 東京応化工業株式会社は、半導体の微細加工に使うフォトレジスト用の高分子化合物の発明について特許を出願したが、拒絶された。不服の審判でも特許庁に退けられたため、会社はその審決の取消しを求めて裁判を起こした。会社は、審決が比べた他社の先の出願の明細書には、問題の化合物が確認できる形で書かれておらず、作り方も役に立つことも十分に示されていないと主張した。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、この発明は、この出願より前に出され後で公開された他社の出願の明細書に書かれた発明と同じだから特許を受けられないとして、審判の請求を退けた。 |
| 判断 | 先の出願の明細書には、問題の単量体と、それからできる高分子化合物が、名前や構造式で示されているに等しいと判断した。 作り方は原料や反応条件とともに書かれており、役に立つことも似た化合物の実験結果などから分かるとして、特許庁の認定に誤りはないとした。 会社の実験は別の化合物を使っていて実施例のやり直しではないなどとして会社の主張を退け、請求を棄却した。 |
- 裁判年月日
- 2014年3月25日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成25年（行ケ）第10199号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成25年（行ケ）第10199号 2014.03.25請求棄却 この判決 |
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