2014年8月7日 知的財産高等裁判所 判決
イオンを当てる成膜方法の特許の新しさ
結果 請求棄却向き―
| あらまし | シンクロン社は、回転させた複数の基板に材料を吹き付けて薄い膜をつくる方法と装置の特許を持っていた。この方法では、基板を載せた台の一部だけにイオンを当て続けるため、基板ごとにイオンが当たるときと当たらないときができる。オプトラン社は特許庁に、この特許を無効にするよう求めた。特許庁が特許を無効としたため、シンクロン社がその判断の取消しを求めて訴えた。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、1996年に出た海外の論文に同じ方法と装置がすでに書かれており、新しい発明とはいえないとして、請求項1と8の特許を無効とする審決をした。 |
| 判断 | 論文の図にある、ドームの軸を囲む回転の矢印は、当時の技術常識からみて、基板を載せたドームが回っていることを示すと読み取れると判断した。 図ではイオンがドーム中央の一部に向けて描かれているので、論文の方法でもイオンが一部の範囲にだけ当たり、当たるときと当たらないときがあると判断した。 論文に特許と同じ構成がすべて書かれている以上、目的が違っても新しい発明とはいえないとして、審決を維持し、特許権者の請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2014年8月7日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成25年（行ケ）第10171号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成25年（行ケ）第10171号 2014.08.07請求棄却 この判決 |
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