2014年8月7日 知的財産高等裁判所 判決
液浸露光の半導体製造方法の特許出願
結果 請求棄却向き―
| あらまし | ある出願人が「半導体装置の製造方法」の特許を出願した。この方法では、ウエハの上に透明な液体の層（ウエハカバー）を置いて露光する。特許庁の審査官は出願を拒絶した。出願人は不服を申し立て、あわせて特許の範囲と説明文を書き直したが、特許庁は書き直しを認めず、不服の申立ても退けた。そこで出願人は、特許庁の判断（審決）の取消しを求めて国を相手に裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、書き直しの内容は最初の出願書類に書かれていなかった新しい事柄なので認めないとした。そのうえで、元の発明は以前に公開された液浸露光装置の文献などから専門家が簡単に思いつけるものなので、特許は受けられないと判断した。 |
| 判断 | 裁判で審査されるのは特許庁の最終判断（審決）だけだ。途中の審査官の報告書や拒絶理由の通知に誤りがあっても、それだけで審決は取り消されないとした。 以前の文献でも、レンズとウエハの間の液体の厚さは決まった値に設定されている。そのため、元の発明の「所定の厚さ」は文献との実質的な違いにはならないとした。 マスク側のカバーについての実験結果が、ウエハ側のカバーにもそのまま当てはまるとは言えない。書き直しは新しい事柄の追加にあたり、認めなかった特許庁の判断は正しいとした。 |
- 裁判年月日
- 2014年8月7日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成25年（行ケ）第10334号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成25年（行ケ）第10334号 2014.08.07請求棄却 この判決 |
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