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2015年9月28日 知的財産高等裁判所 判決

窒化ガリウム半導体レーザの特許

結果 控訴棄却向き―

あらまし三洋電機は、窒化物系の半導体素子とその製造方法について2つの特許を持っていた。この特許は、基板の裏面を研磨したときにできる結晶の乱れ(転位)を取り除いてから電極を付けることで、電気の流れにくさ(コンタクト抵抗)を下げるというものだ。三洋電機は、日亜化学工業の半導体レーザ製品の製造・販売がこの特許を侵害していると主張した。そして、製造・販売の差止めと製品の廃棄、12億円の支払いを求めた。
それまでの判断東京地方裁判所は、三洋電機の請求をすべて退けた。
判断

2つの特許は、先に出ていた公開公報に書かれた発明と当時の技術常識をもとに容易に思いつけたものであり、無効にされるべきだと判断した。

研磨で転位を含む層ができること、転位が電気を運ぶ電子を捕らえて抵抗を上げることは、当時の専門家にとって常識だったと認めた。

無効にされるべき特許に基づく請求は認められないとして、それ以外の争点は判断せずに控訴を退けた。

裁判年月日
2015年9月28日
裁判所
知的財産高等裁判所
種類
―
事件番号
平成26年(ネ)第10108号
事件名
特許権侵害行為差止等請求控訴事件
結果
控訴棄却
向き
―
原文
裁判所ウェブサイト

裁判の流れ

段階裁判所日付種類結果判決文
一審東京地方裁判所―請求を退けた ―――請求を退けた―
高裁知的財産高等裁判所

平成26年(ネ)第10108号

2015.09.28控訴棄却 この判決
2015.09.28―控訴棄却この判決

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この判決をした裁判官

3人
傾向名前立場向き個別意見・役割
鶴岡 稔彦賛成―裁判長
田中 正哉賛成―
神谷 厚毅賛成―

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