2006年2月28日 知的財産高等裁判所 判決
半導体露光装置の特許取消と進歩性
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 韓国の半導体装置メーカーは、フォトリソグラフィ工程（基板に薬を塗り、光を当て、現像する工程）で使う半導体製造装置の特許を持っていた。この装置では、塗る工程の通路と現像する工程の通路を上下の別の階に分けて置く。この特許に第三者が異議を申し立て、特許庁は全6項目の特許を取り消す決定をした。メーカーは、この決定の取消しを求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、この発明は以前に出た公報に載っていた装置と、業界でよく知られた手法を組み合わせれば専門家が簡単に思いつけるとして、請求項1〜6の特許を取り消した。 |
| 判断 | 装置の各部を上下の階に重ねて置き場所の面積を小さくする手法は、出願前の複数の公報に載っており、よく知られた手法だったと認めた。 以前の装置は塗る部分と現像する部分を横に並べていたが、これを上下に重ねる形に変えることは専門家なら簡単に思いつけるとした。基板の運び方が簡単になるという効果も、格別のものではないとした。 残りの請求項に付け加えられた中間の壁などの要素も、よく使われる手法にすぎないとして、メーカーの請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2006年2月28日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成17年（行ケ）第10474号
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成17年（行ケ）第10474号 2006.02.28請求棄却 この判決 |
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この判決をした裁判官
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