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2005年6月29日 知的財産高等裁判所 判決

ウエハ研磨方法の特許取消

結果 請求棄却向き―

あらまし光学機器メーカーのニコンは、半導体ウエハを研磨するときに、回転する定盤(研磨台)に設けた透明な窓から膜の表面の光の反射を見て、研磨の終わりを判定する方法と装置の特許を持っていた。この特許に異議が申し立てられ、特許庁は特許を取り消す決定をした。ニコンは、この決定の取消しを求めて裁判を起こした。
それまでの判断特許庁は、ニコンの訂正の申請は認めた。しかし、請求項1〜16の発明は、窓を通して研磨の終わりを判定するスタンパの研磨方法の公開文献と、膜厚を測りながらウエハを研磨する方法の公開文献から専門家が容易に思いつけたとして、特許を取り消した。
判断

ニコンの請求を退けた。特許庁の発明の比べ方に細かい不正確さはあったが、特許を取り消すという結論は変わらないとした。

2つ目の文献にも研磨しながら膜の光の反射を見る方法が書かれており、技術分野も共通するので、2つの文献を組み合わせる動機は十分にあるとした。

回転を止めずに測る点に新しい技術が必要だという主張は、訂正のときの自らの説明と食い違い、精度の違いや効果の主張も認めなかった。

裁判年月日
2005年6月29日
裁判所
知的財産高等裁判所
種類
―
事件番号
平成17年(行ケ)第10219号
結果
請求棄却
向き
―
原文
裁判所ウェブサイト

裁判の流れ

段階裁判所日付種類結果判決文
高裁知的財産高等裁判所

平成17年(行ケ)第10219号

2005.06.29請求棄却 この判決
2005.06.29―請求棄却この判決

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この判決をした裁判官

3人
傾向名前立場向き個別意見・役割
三村 量一賛成―裁判長
若林 辰繁賛成―
沖中 康人賛成―

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