2002年9月17日 東京高等裁判所 判決
半導体の真空処理装置の搬送特許
結果 —向き―
| あらまし | 日立製作所は、半導体の基板を真空の中で処理する装置で基板を運ぶしくみについて特許を持っていた。この特許に異議の申立てがあり、特許庁は、以前からある技術をもとに専門家なら簡単に思いつける発明だとして、特許を取り消した。日立製作所は、この取消しの決定を取り消すよう求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は2000年12月22日、日立製作所が出した特許の内容の訂正は認めた。そのうえで、請求項1と2の発明は以前の公報に書かれた発明とよく知られた技術から簡単に思いつけるとして、特許を取り消す決定をした。 |
| 判断 | 日立製作所の請求を退け、特許を取り消した特許庁の決定は正しいと判断した。 以前の公報にあるバッファ室と前処理室は2つ合わせて「搬送室」にあたり、仕切り壁も特許の「仕切り」にあたるとした。 搬送室を1つにすることや、処理後の基板を元のカセットの元の位置に戻すことはよく知られた技術であり、組み合わせるのは簡単で、特別な効果もないとした。 |
- 裁判年月日
- 2002年9月17日
- 裁判所
- 東京高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成13年(行ケ)第58号
- 結果
- —
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 東京高等裁判所 平成13年(行ケ)第58号 2002.09.17— この判決 |
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この判決をした裁判官
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