2001年10月30日 東京高等裁判所 判決
露光装置特許の訂正と取消決定
結果 —向き―
| あらまし | 電機メーカーは、半導体の回路パターンをウエハに焼き付ける「投影露光装置」とそれを使った半導体装置の製造方法について特許を持っていた。この特許に異議が申し立てられ、特許庁は特許を取り消す決定をした。メーカーはこの決定の取消しを求めて裁判を起こした。その裁判の途中で、メーカーは特許の範囲を狭める訂正を別の手続で特許庁に求め、認められて確定した。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、メーカーが異議の手続中に出した訂正は認めず、訂正前の特許の範囲を前提に、出願前に発表された学会の講演予稿集に書かれた発明と同じだとして、2つの請求項の特許を取り消した。 |
| 判断 | 特許庁の取消決定を取り消した。 裁判中に特許の範囲を狭める訂正が確定したので、訂正前の範囲を前提にした決定は結果的に誤りになった。 この誤りは決定の結論に影響するので違法だとした。特許庁もこの訂正の確定は争わなかった。 |
- 裁判年月日
- 2001年10月30日
- 裁判所
- 東京高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成12年（行ケ）第477号
- 結果
- —
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 東京高等裁判所 平成12年（行ケ）第477号 2001.10.30— この判決 |
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この判決をした裁判官
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