2006年11月21日　知的財産高等裁判所　判決

半導体用レジスト特許の取消し

結果　請求棄却向き―

あらまし	東京応化工業は、半導体の製造でKrFエキシマレーザーを当てて微細な回路を描くのに使う「ポジ型レジスト組成物」の特許を持っていた。第三者がこの特許に異議を申し立て、特許庁は特許の一部（請求項1）を取り消した。会社は、取消しは誤りだとして、特許庁の取消決定を取り消すよう求めた。
それまでの判断	特許庁は、この発明は以前の公開資料に書かれた発明と、よく知られた技術をもとに専門家なら簡単に思いつけたもので、新しい工夫（進歩性）がないとして、請求項1の特許を取り消す決定をした。
判断	特許庁は出願日を実際の提出日とした点で誤った。だが、根拠となった資料はどれも本来の出願日より前に公開されており、結論は変わらない。樹脂の分子量のばらつきが小さい（1.5以下）方が望ましいことは、樹脂の種類を問わず知られていた。既存の発明に当てはめるのは簡単で、取消しは正しい。特許庁が新たに挙げた資料は、事前に通知した取消理由を補うものにすぎず、会社に意見を言う機会を与えなかった手続の違反はない。

あらまし

東京応化工業は、半導体の製造でKrFエキシマレーザーを当てて微細な回路を描くのに使う「ポジ型レジスト組成物」の特許を持っていた。第三者がこの特許に異議を申し立て、特許庁は特許の一部（請求項1）を取り消した。会社は、取消しは誤りだとして、特許庁の取消決定を取り消すよう求めた。

それまでの判断

特許庁は、この発明は以前の公開資料に書かれた発明と、よく知られた技術をもとに専門家なら簡単に思いつけたもので、新しい工夫（進歩性）がないとして、請求項1の特許を取り消す決定をした。

判断

特許庁は出願日を実際の提出日とした点で誤った。だが、根拠となった資料はどれも本来の出願日より前に公開されており、結論は変わらない。

樹脂の分子量のばらつきが小さい（1.5以下）方が望ましいことは、樹脂の種類を問わず知られていた。既存の発明に当てはめるのは簡単で、取消しは正しい。

特許庁が新たに挙げた資料は、事前に通知した取消理由を補うものにすぎず、会社に意見を言う機会を与えなかった手続の違反はない。

裁判の流れ

段階	裁判所	日付	種類	結果	判決文
高裁	知的財産高等裁判所平成18年（行ケ）第10159号 2006.11.21請求棄却　この判決	2006.11.21	―	請求棄却	この判決

判決文が公開されていないものは、分かっていることだけを載せています。

3人

名前	立場	向き	個別意見・役割
佐藤久夫	賛成	―	裁判長
大鷹一郎	賛成	―
嶋末和秀	賛成	―

判決のデータは裁判所ウェブサイトの裁判例検索などから集めています。傾向の色は、これまでの判決をもとにした目安です。

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