2009年10月8日 知的財産高等裁判所 判決
太陽電池用ウェハの溝の作り方と新規性
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 韓国の電機メーカー（三星エスディアイ）が、太陽電池用の半導体ウェハの製造方法について特許を出願した。この方法は、ウェハの表面に保護膜を付け、縦にも横にも同じ速さで削れる薬液（等方性エッチング溶液）に浸して溝を作り、そのあと保護膜を取り除くというものだ。特許庁は、以前に公開された文献に同じ発明がすでに載っているとして特許を認めなかった。メーカーは、この特許庁の判断（審決）を取り消すよう求めた。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、以前の公開文献にも断面がU字形の凹みを薬液で作る方法が載っており、U字形であることから縦横同じ速さで削る薬液を使っていることは専門家には明らかだと判断した。そのため、出願の発明は新しいものではないとして、メーカーの不服の申立てを退けた。 |
| 判断 | 薬液で縦横同じ速さで削ると側面が曲線になり、方向で削れ方が違う方法だと側面が平らな面になる。これは当時の専門家の常識だったと認めた。 以前の文献の凹みは側面が曲線のU字形なので、縦横同じ速さで削る方法で作ったと認められる。図に保護膜の下の削れが描かれていないことは、この判断を妨げないとした。 発明は以前の文献の発明と同じだとした特許庁の判断に誤りはないとして、メーカーの請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2009年10月8日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成20年（行ケ）第10448号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成20年（行ケ）第10448号 2009.10.08請求棄却 この判決 |
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