2010年2月24日 知的財産高等裁判所 判決
半導体ウェハの研磨方法と進歩性
結果 審決取消向き―
| あらまし | 米国の半導体メーカーが、ウェハを研磨パッドに押し当てて表面を平らにする方法について、日本で特許を出願した。この方法は、研磨中に押し付ける力を一定の間隔で何度も弱め、圧力を脈打つように変化させる。そうすることで、研磨液が行き渡りにくい部分にも研磨液が届くようにするものだ。特許庁は出願を認めず、不服の申立ても退けたため、メーカーは特許庁の判断（審決）の取消しを求めて裁判を起こした。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、ガラス板の研磨方法を記した以前の公開公報にも、押し付ける力を断続的に弱めて脈打つような圧力を生む方法がすでに書かれていると判断した。そのうえで、この発明はその公報と周知の技術から簡単に思いつけるとして、特許を認めなかった。 |
| 判断 | 特許の文言は説明部分も参考に解釈すべきだ。この発明の「パルス状の圧力」とは、研磨液を不足部分へ行き渡らせるために積極的に作り出す圧力を意味する。 以前の公報の方法は、圧力を下げたすきに中心の穴から研磨液を流し込むためのものだ。動作は似ていても技術的な意味が違い、同じ発明とはいえない。 以前の公報には、この発明の考え方は書かれておらず、示唆もない。容易に思いつけたとした特許庁の判断は誤りなので、審決を取り消した。 |
- 裁判年月日
- 2010年2月24日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成21年（行ケ）第10139号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 審決取消
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成21年（行ケ）第10139号 2010.02.24審決取消 この判決 |
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