2012年3月21日 知的財産高等裁判所 判決
日立の位相シフトマスク発明の対価
結果 原判決一部変更向き―
| あらまし | 日立製作所の元社員は、在職中に半導体の回路を焼き付けるマスク（位相シフトマスク）に関する発明をし、日本・米国・韓国で特許を受ける権利を会社に引き継がせた。会社は他社と多数の特許をまとめて互いに使わせ合う契約（包括クロスライセンス契約）を結び、この特許でも利益を得ていた。元社員は、職務発明の「相当の対価」として、約15億8800万円のうち6億円の支払を求めて訴えた。控訴審では、元社員は3億5000万円まで求め、会社は支払義務がないと主張した。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 東京地方裁判所は、相当の対価を合計約6303万円と認め、その範囲で元社員の請求を認めた。 |
| 判断 | この特許は、広く使われていた「ハーフトーン型」のマスクには及ばず、商業的に実用化されなかった「エッジ強調型」の技術にとどまると判断した。 会社が他社との交渉材料として実際に示したライセンス契約に限って利益を数え、その利益に対する特許の寄与を3％、会社の貢献を95％と認めた。 すでに支払った報奨金約2223万円を差し引き、会社が支払う額を約290万円に減らした。元社員の控訴は退けた。 |
- 裁判年月日
- 2012年3月21日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成22年（ネ）第10062号
- 事件名
- 職務発明譲渡対価等請求控訴事件
- 結果
- 原判決一部変更
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 一審 | 東京地方裁判所―請求を一部認めた（約6303万円） ― |
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成22年（ネ）第10062号 2012.03.21原判決一部変更 この判決 |
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