2014年11月4日 知的財産高等裁判所 判決
炭化珪素半導体の製法特許の無効審判
結果 請求棄却向き―
| あらまし | 研究機関（独立行政法人）は、炭化珪素を使った半導体装置の製造方法について特許を持っていた。この方法は、表面を酸化して40nm以上の膜を作り、それを取り除くことで傷んだ表面を除き、漏れ電流を減らすというものだ。ある個人が、この発明は先に発表された論文などから簡単に思いつけるとして、特許を無効にするよう特許庁に求めた。しかし認められなかったため、その判断を取り消すよう裁判所に求めた。 |
|---|---|
| それまでの判断 | 特許庁は、2つの先行論文（甲1・甲6）とよく知られた技術を組み合わせても、この発明は簡単には思いつけないとして、無効の請求を退けた（2013年9月30日）。 |
| 判断 | 特許の「酸化膜を除去する」とは、明細書の説明に照らして、膜の一部ではなく全部を取り除く意味だと判断し、特許庁の解釈を正しいとした。 先行論文の酸化膜は表面を守るために残しておく膜で、取り除く前提の膜とは目的も働きも違う。このため、発明を簡単に思いつけたとはいえないとした。 特許庁の判断に誤りはないとして、請求を退けた。 |
- 裁判年月日
- 2014年11月4日
- 裁判所
- 知的財産高等裁判所
- 種類
- ―
- 事件番号
- 平成25年（行ケ）第10300号
- 事件名
- 審決取消請求事件
- 結果
- 請求棄却
- 向き
- ―
- 原文
- 裁判所ウェブサイト
裁判の流れ
| 段階 | 裁判所 |
|---|---|
| 高裁 | 知的財産高等裁判所 平成25年（行ケ）第10300号 2014.11.04請求棄却 この判決 |
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