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2015年12月24日 知的財産高等裁判所 判決

窒化物半導体の製造方法特許の進歩性

結果 審決取消向き―

あらまし電機メーカーは、窒化物系半導体素子(半導体レーザーなど)の製造方法について特許を持っていた。この方法は、基板の裏面を研磨したあと、研磨でできた結晶の乱れ(転位)を含む部分を取り除いてから電極をつけ、電極との間の電気抵抗を低くするものだ。別の化学メーカーは、この特許は以前の文献から簡単に思いつけるものだとして、特許庁に無効にするよう求めた。しかし認められなかったため、その判断の取消しを求めて裁判を起こした。
それまでの判断特許庁は、以前の文献には、電極をつける面の近くにある転位をあらかじめ取り除くことは書かれておらず、それを示唆する記載もないとした。そのため、この発明は簡単には思いつけないとして、無効を求める請求を退けた。
判断

研磨すると転位を含む傷んだ層ができること、転位が電気を運ぶ電子を捕まえて電子を減らすことは、当時の技術者の常識だったと認めた。

研磨後にエッチングで表面のゆがみを取り、抵抗を下げる先行文献があった。さらに抵抗を下げるため傷んだ層を取り除き、転位を減らすことは簡単に思いつけたとした。

電気抵抗の数値も簡単に実現できたとして、特許庁の判断は誤りだとし、無効の請求を退けた特許庁の判断を取り消した。

裁判年月日
2015年12月24日
裁判所
知的財産高等裁判所
種類
―
事件番号
平成27年(行ケ)第10116号
事件名
審決取消請求事件
結果
審決取消
向き
―
原文
裁判所ウェブサイト

裁判の流れ

段階裁判所日付種類結果判決文
高裁知的財産高等裁判所

平成27年(行ケ)第10116号

2015.12.24審決取消 この判決
2015.12.24―審決取消この判決

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この判決をした裁判官

3人
傾向名前立場向き個別意見・役割
清水 節賛成―裁判長
中村 恭賛成―
中武 由紀賛成―

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